Máquina purificadora de agua por ósmosis inversa de una etapa con EDI y tecnología de filtración avanzada

Requisito básico: Agua de alta pureza para evitar la contaminación de los componentes de precisión por iones, partículas y sustancias orgánicas.

• Procesos de limpieza, grabado y fotolitografía de chips de semiconductores
• Fabricación de componentes electrónicos (condensadores, resistencias)
• Fabricación de paneles LCD y de paneles solares (limpieza de sustratos, preparación de recubrimientos)

Requisito básico: Agua purificada que cumple con las normas de la farmacopea (Farmacopea china, USP).

• Agua para preparaciones inyectables y preparados líquidos orales
• Procesos de biotecnología (fermentación, producción de vacunas)
• Equipo médico (máquinas de diálisis)

Requisito básico: Baja dureza, agua con bajo contenido de iones para evitar que el equipo se descasque y se corroe.

• Tratamiento de aguas de alimentación en calderas (instalaciones térmicas/nucleares)
• Tratamiento de aguas de refrigeración por turbina de vapor y condensador

Requisito básico: agua de alta pureza como medio de reacción para mantener la pureza del producto.

• Producción de productos farmacéuticos intermedios y catalizadores
• Nanomateriales y preparación de electrolitos de baterías de litio
• Aplicaciones analíticas de laboratorio

Requisito básico: Agua purificada que cumpla con las normas de seguridad alimentaria, libre de microorganismos y contaminantes.

• Producción de bebidas (agua pura, jugos, cerveza)
• Limpieza de equipos de procesamiento de alimentos y lácteos
• Preparación de aditivos alimentarios

Requisito básico: agua ultrapura para experimentos y análisis de alta precisión.

• Laboratorios de universidades e instituciones de investigación
• Monitoreo ambiental y ensayo de la calidad del agua
• Aplicaciones de pruebas médicas

• Postratamiento para la desalinización de agua de mar/agua salobre
• Producción de productos cosméticos (emulsiones, esencias)
• Procesos de fabricación de automóviles